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水滴角測量儀應用芯片半導體行業(yè)

發(fā)布時間:2020-6-24 16:53:45


半導體芯片行業(yè),特別是在晶圓制造過程中對晶圓的純度要求很高,只有需要晶圓才能被視為合格。水滴角測量儀是評價等離子體清洗效果的一種有效工具。近些年以來,我國芯片行業(yè)發(fā)展迅速,對半導水滴測試角提出了更高的要求。

芯片清洗機

根據(jù)水滴角測試的基本原理,固體表面接觸角值或水滴角值不同于左、右、前、后,因此,水滴角測量儀器的算法采用符合界面化學基本原理的3D算法(adsa-realdrop)。同時,硬件必須具有微電平控制精度的二維水平調(diào)節(jié)表和微電平控制精度的二維水平調(diào)節(jié)機構。

半導體清洗機

芯片半導體應用測試技術要求:
1.由于芯片的納米工藝,如7nm或者更小,結(jié)構多樣,方向多樣,在芯片或晶片制作過程中異質(zhì)性特別突出。此外,要求水滴角度測量儀采用阿莎算法,充分利用其高靈敏度。

2.水滴角度測量儀的應用特性要求微液滴(盡可能在1ul內(nèi),使用超細針)在一小范圍內(nèi)左、右、前、后由于小變化造成的清洗效果差。

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